三價鉻對鍍鉻過程有什么影響?
答:在鍍鉻過程中,由于鉻酐在陰極上還原,鍍鉻電解液在鍍鉻時產生三價鉻是不可避免的。新配制的鍍鉻液在開始電解時,其三價鉻濃度從零值逐漸增加,最后由于三價鉻在陽極上氧化而達到平衡。
三價鉻是生成膠體膜的主要成分,但是也必須含量適當才能獲得質量良好的鉻層。三價鉻含量過高,生成的膠體膜很致密,獲得光澤鍍層的范圍縮小,得到的鍍層灰白和粗糙,和硫酸含量低或溫度低時所得到的鍍層相似,當三價鉻含量過低時,生成的膠體膜不連續,使鍍層不均勻,有的地方甚至沒有鍍層,和硫酸含量過高的現象一樣。
在正常工作的鍍鉻電解液中,三價鉻濃度介于1~3克/升(以Cr2O3計)間。三價鉻的濃度決定于陽極電流密度與陰極電流密度之比,最好使這個比值等于0.5,也就是陽極面積比陰極面積大一倍。